半导体洁净厂房建设及环境技术要求 -凯发k8国际首页登录

　　半导体洁净室需要控制尘埃粒子的数量，以防止对产品造成不良影响。iso 14644-1级标准要求每立方米空气中直径大于0.1微米的尘埃粒子数不超过一定数量(如class 5要求不超过10000个)。

　　3、微生物数控制：

　　洁净室还需要控制微生物的数量，以防止微生物对产品造成污染。一般情况下，洁净室内的微生物数应控制在每立方米空气中不超过一定数量(如class 5要求不超过100个)。

　　4、温湿度控制：

　　半导体洁净室的温度和湿度需要控制在一定的范围内，以保证产品的稳定性和可靠性。一般情况下，洁净室的温度应控制在22±2℃，湿度应控制在55±5%的范围内。

　　过于干燥的厂房内极易产生静电，造成cmos集成损坏，因此湿度的控制尤为重要。

　　5、压差控制：

　　洁净室的压差与室外的静压差不应小于10pa，不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不应小于5pa，以确保洁净空气能够均匀分布，并有效排除污染物。

　　6、其他环境参数：

　　噪声级：电子制造厂万级洁净室内的噪声级(空态)不应大于65db(a)。

　　气流组织：洁净室的气流组织应合理设计，以确保洁净空气能够均匀分布到整个房间，并有效排除污染物。

三、智能化管理

　　随着科技的不断发展，智能化管理已成为半导体洁净厂房装修建筑布局设计的重要趋势。通过集成环境监测系统和智能管理系统，可以实时监测厂房内部的温湿度、尘埃粒子数等参数，以及设备的运行状态，实现智能化的环境控制和管理。这不仅有助于提高洁净厂房的运行效率和管理水平，还能够降低能源消耗和运行成本。

　　综上所述，的建设及环境技术要求涉及多个方面，包括建设要求、环境技术要求和智能化管理等。这些要求的严格执行对于保证半导体产品的质量和生产效率具有重要意义。