各类产品的品种不同、生产工艺不同,所要求的空气洁净度等级也不相同。因此第3.2.2条规定各种电子产品用凯发k8国际首页登录时,生产环境的空气洁净度等级应根据生产工艺要求确定;当在设计时,业主或发包方未提出要求或暂时未提出要求时,可参照本规范附录a的要求确定。在附录a所列要求中,由于各种产品生产工艺都各不相同,所以对于空气洁净度等级、控制粒径均列出一定的范围供参考,为说明这些差异,下面列举一些工程的实例供参考。
表4~表6分别列出8″和4″、5″硅单晶及硅片加工、集成电路的芯片制造、tft-lcd生产所需的空气洁净度等级、温度、湿度的实例。
1、微硬盘驱动器(hdd)生产用洁净厂房溅射生产区4级:
组装、测试等6级
2、高密度磁盘生产用洁净厂房
3、表7、表8分别列出彩色显像管生产、光导纤维生产所需的空气洁净度等级、温度、湿度的实例。
4、磁头生产用洁净厂房:磁头装配、溅射烧结等要求4级(0.1μm),研磨、检测等要求5级(0.1μm),切割等要求6级。
5、印制电路板生产用洁净厂房:6.5级、24±2℃、65%±5%。
6、锂电池生产的干作业洁净生产区:6级、23℃,露点(dp)-30℃;组装、测试洁净室(区):7级、23±2℃、≈20%。
7、等离子显示器(pdp)生产用洁净厂房:涂屏间等:5.5级、25±2℃,50%±10%;其他生产间:6.5~8级、20~26℃、55%±10%。
现代电子产品生产的重要特点之一,在许多电子产品的生产过程中需使用高纯水、高纯气体和高纯化学品,且各类电子产品生产时,因品种不同、产品生产工艺也不同,对高纯物质的纯度、杂质含量的要求不同,它们之间差异很大。表9是中国电子级水的技术指标,表10是美国astmd5127电子及半导体工业用纯水的水质要求,表11是tft-lcd生产用纯水水质要求,表12是一个8″集成电路芯片制造用高纯水水质要求。
近年来,对一些电子工厂的洁净室(区)内的噪声级(空态)的检测资料表明,大部分单向流洁净室(区)内的噪声均可小于65db(a)也有少数洁净室(区),由于各种原因,实际检测的噪声超过65db(a)。非单向流洁净室(区)内的噪声大部分可小于60db(a)。表16是部分(区)内噪声的检测数据。